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[高分] 书籍 Plasma Etching Fundamentals and Applications
等离子体刻蚀基础与应用
相关领域
等离子体 等离子体刻蚀 蚀刻（微加工） 无线电频率 材料科学 纳米技术 物理 工程物理 光电子学 工程类 电气工程 核物理学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1093/oso/9780198562870.001.0001
DOI
10.1093/oso/9780198562870.001.0001 doi
其它 期刊：Oxford University Press eBooks
作者：Mitsuru Sugawara; Barry L Stansficld; S Handa; Ken‐ichi Fujita; Satiro Watanabe; et al
出版日期：1998-05-28
求助人
累了就休息不是放弃 在 2025-05-01 18:10:46 发布自江苏，悬赏 200 积分
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