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 Thermal stability and electrical characteristics of ultrathin hafnium oxide gate dielectric reoxidized with rapid thermal annealing 快速热退火再氧化超薄氧化铪栅介质的热稳定性和电学特性
相关领域
材料科学
退火（玻璃）
铪
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Byoung Hun Lee; Laegu Kang; R. Nieh; Wen-Jie Qi; Jack C. Lee 出版日期：2000-04-03 |
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