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标题
Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Plasmonic TiN Ultrathin Films Using TDMATi and NH3
相关领域
原子层沉积 材料科学 图层(电子) 沉积(地质) 等离子体子 等离子体 纳米技术 化学工程 光电子学 冶金 工程类 沉积物 量子力学 生物 古生物学 物理
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DOI
10.3390/ma13051058 doi
其它 期刊:Materials
作者:Katherine Hansen; Melissa Cardona; Amartya Dutta; Chen Yang
出版日期:2020-02-27
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