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Leakage Current Characteristics of Atomic Layer Deposited Al-Doped TiO2Thin Film for Dielectric in DRAM Capacitor
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网址
http://dx.doi.org/10.1149/2162-8777/ac1c9c
DOI
10.1149/2162-8777/ac1c9c doi
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爱撒娇的文博 在 2026-01-20 20:36:48 发布自上海，悬赏 10 积分
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