| 标题 |
Enhanced reliability and uniformity for Ge pMOSFET with low temperature supercritical fluid treatment 低温超临界流体处理提高Ge pMOSFET的可靠性和均匀性
相关领域
材料科学
可靠性(半导体)
超临界流体
锗
MOSFET
光电子学
工程物理
可靠性工程
电子工程
电气工程
热力学
硅
晶体管
工程类
功率(物理)
物理
电压
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Surface and Coatings Technology 作者:Dun‐Bao Ruan; Kuei-Shu Chang-Liao; Ji-Syuan Li; Bo-Lien Kuo; Zi-Qin Hong; et al 出版日期:2021-08-20 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)