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![]() 低温超临界流体处理提高Ge pMOSFET的可靠性和均匀性
相关领域
材料科学
可靠性(半导体)
超临界流体
锗
MOSFET
光电子学
工程物理
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其它 |
期刊:Surface and Coatings Technology 作者:Dun‐Bao Ruan; Kuei-Shu Chang-Liao; Ji-Syuan Li; Bo-Lien Kuo; Zi-Qin Hong; et al 出版日期:2021-08-20 |
求助人 |
六里桥卖糖葫芦的
在
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