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 Complex EUV imaging reflectometry: spatially resolved 3D composition determination and dopant profiling with a tabletop 13nm source 相关领域
极紫外光刻
计量学
反射计
材料科学
掺杂剂
图像分辨率
光学
光电子学
高光谱成像
表面粗糙度
表面光洁度
计算机科学
兴奋剂
物理
时域
复合材料
人工智能
计算机视觉
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期刊： 作者：Robert Karl; Peter Johnsen; Daniel E. Adams; Henry C. Kapteyn; Margaret M. Murnane; et al 出版日期：2018-03-13 |
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