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Morphological characteristics and formation mechanism of latent scratches in chemical mechanical polishing
化学机械抛光中潜在划痕的形貌特征及形成机理
相关领域
材料科学 抛光 潜在抑制 接触面积 高斯分布 透射电子显微镜 复合材料 纳米技术 化学 数学 条件作用 统计 经典条件反射 计算化学
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DOI
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AI识别 10.1016/j.jmatprotec.2022.117689 doi
其它 Journal of Materials Processing Technology
Volume 307, September 2022, 117689
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porous 在 2025-08-02 11:00:40 发布自山东,悬赏 10 积分
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