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 Morphological characteristics and formation mechanism of latent scratches in chemical mechanical polishing 化学机械抛光中潜在划痕的形貌特征及形成机理
相关领域
材料科学
抛光
潜在抑制
接触面积
高斯分布
透射电子显微镜
复合材料
纳米技术
化学
数学
条件作用
经典条件反射
统计
计算化学
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Journal of Materials Processing Technology Volume 307, September 2022, 117689 |
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