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 A transient site balance model for atomic layer etching 原子层刻蚀的瞬态位点平衡模型
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期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Joseph R. Vella; Qinzhen Hao; Mahmoud A. I. Elgarhy; Vincent M. Donnelly; David B. Graves 出版日期：2024-06-28 |
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