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标题
Si bilayer tunnel field-effect transistor structure realized using tilted ion-implantation technique
用倾斜离子注入技术实现的Si双层隧道场效应晶体管结构
相关领域
材料科学 隧道场效应晶体管 晶体管 光电子学 量子隧道 离子注入 杂质 场效应晶体管 泄漏（经济） 制作 离子 双层 导带 电压 热传导 化学 电气工程 物理 复合材料 经济 电子 病理 医学 有机化学 宏观经济学 工程类 量子力学 替代医学 生物化学 膜
网址
https://doi.org/10.1016/j.sse.2021.107993
DOI
10.1016/j.sse.2021.107993 doi
其它 期刊：Solid-State Electronics
作者：Kimihiko Kato; Hidehiro Asai; Koichi Fukuda; Takahiro Mori; Yukinori Morita
出版日期：2021-04-30
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隐形曼青 在 2025-08-28 16:24:00 发布，悬赏 10 积分
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