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标题
Fast Thermal Quenching on the Ferroelectric Al:HfO2 Thin Film with Record Polarization Density and Flash Memory Application
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/9264988/9264985/09265024...
DOI
10.1109/vlsitechnology18217.2020.9265024 doi
其它 期刊：2020 IEEE Symposium on VLSI Technology
作者：Boncheol Ku; Seonjun Choi; Yunheub Song; Changhwan Choi
出版日期：2020-12-03
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科研大白 在 2026-09-20 15:18:28 发布自湖北，悬赏 10 积分
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