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 Comparing Isoelectric Point and Surface Composition of Plasma Modified Native and Deposited SiO2 Films Using Contact Angle Titrations and X‐ray Photoelectron Spectroscopy 相关领域
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期刊：Plasma Processes and Polymers 作者：Kristina J. Trevino; Jeffrey C. Shearer; Brendan D. Tompkins; Ellen R. Fisher 出版日期：2011-07-13 |
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