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 PECVD SiO2 and SiON films dependant on the rf bias power for low-loss silica waveguide PECVD SiO2和SiON薄膜对低损耗二氧化硅波导射频偏压功率的影响
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期刊：Thin Solid Films 作者：Y.T. Kim; Do–Hyeon Kim; Dae Ho Yoon 出版日期：2004-12-15 |
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