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PECVD SiO2 and SiON films dependant on the rf bias power for low-loss silica waveguide

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作者
Y.T. Kim,Do–Hyeon Kim,Dae Ho Yoon
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier BV]
日期：2004-12-15 卷期号：475 (1-2): 271-274 被引量：31
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2004.07.044
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