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Optoelectronic properties of p-type NiO films deposited by direct current magnetron sputtering versus high power impulse magnetron sputtering 相关领域
高功率脉冲磁控溅射
材料科学
光电子学
溅射沉积
溅射
腔磁控管
薄膜
电阻率和电导率
分析化学(期刊)
纳米技术
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电气工程
色谱法
工程类
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期刊:Applied Surface Science 作者:Sheng‐Chi Chen; T.Y. Kuo; Hsin-Chih Lin; Rongzhi Chen; Hui Sun 出版日期:2019-12-19 |
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