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标题
Influence of annealing temperature on nickel oxide thin films grown by chemical bath deposition
退火温度对化学浴沉积氧化镍薄膜的影响
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材料科学 X射线光电子能谱 退火(玻璃) 化学浴沉积 分析化学(期刊) 工作职能 薄膜 带隙 无定形固体 氧化镍 扫描电子显微镜 化学工程 纳米技术 结晶学 冶金 化学 复合材料 金属 光电子学 工程类 色谱法
网址
DOI
10.1016/j.mssp.2017.09.021 doi
其它 期刊:Materials Science in Semiconductor Processing
作者:M. Martínez-Gil; Maria Isabel Pintor‐Monroy; M. Cota–Leal; D. Cabrera-Germán; A. Garzón-Fontecha; et al
出版日期:2017-12-01
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