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  Injection of low-energy SiCH5+ ion-beam to Si substrate during chemical vapor deposition process using methylsilane 甲基硅烷化学气相沉积过程中低能SiCH5+离子束注入硅衬底
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期刊：AIP Advances 作者：Satoru Yoshimura; Satoshi Sugimoto; Takae Takeuchi; Kensuke Murai; Masato Kiuchi 出版日期：2022-11-01 |
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