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标题
Injection of low-energy SiCH5+ ion-beam to Si substrate during chemical vapor deposition process using methylsilane
甲基硅烷化学气相沉积过程中低能SiCH5+离子束注入硅衬底
相关领域
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网址
https://pubs.aip.org/aip/adv/article-pdf/doi/10.1063/5.01252...
AI链接 aip.org aip.orgdoi.org
DOI
10.1063/5.0125209 doi
其它 期刊：AIP Advances
作者：Satoru Yoshimura; Satoshi Sugimoto; Takae Takeuchi; Kensuke Murai; Masato Kiuchi
出版日期：2022-11-01
求助人
sukiyaki 在 2025-08-30 19:48:49 发布，悬赏 10 积分
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