Calibration of a MOx-specific EUV photoresist lithography model

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标题	Calibration of a MOx-specific EUV photoresist lithography model MOx专用EUV光刻胶光刻模型的校准相关领域极紫外光刻抵抗平版印刷术材料科学计算光刻浸没式光刻纳米技术多重图案光学光电子学物理图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.2552151
DOI	10.1117/12.2552151 doi
其它	期刊：作者：Craig D. Needham; Amrit Narasimhan; Ulrich Welling; Lawrence S. Melvin; Peter De Schepper; et al 出版日期：2020-03-23
求助人	snakersnaker 在 2025-10-27 07:48:11 发布自湖北，悬赏 20 积分
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