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 High-efficiency dual-band-multiplexing three-port grating coupler on 220-nm silicon-on-insulator with 248-nm deep-UV lithography 220 nm绝缘体上高效双频复用三端口光栅耦合器及248 nm深紫外光刻
相关领域
绝缘体上的硅
电子束光刻
栅栏
平版印刷术
光学
多路复用
材料科学
光电子学
光刻
浸没式光刻
硅
衍射光栅
计算机科学
物理
抵抗
电信
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图层（电子）
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期刊：Optics Letters 作者：Lirong Cheng; Simei Mao; Zhi Li; Xiaoguang Tu; H. Y. Fu 出版日期：2021-07-01 |
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