Research on Process and Mechanism of Femtosecond Laser Polishing for 4H-SiC Substrates

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标题	Research on Process and Mechanism of Femtosecond Laser Polishing for 4H-SiC Substrates
网址	http://dx.doi.org/10.3788/LOP251008
DOI	10.3788/LOP251008 doi
求助人	老实映易在 2026-07-18 22:34:51 发布自吉林，悬赏 10 积分
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