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 Role of film thickness on the structural and optical properties of GaN on Si (100) grown by hollow-cathode plasma-assisted atomic layer deposition 薄膜厚度对Si（100）上GaN结构和光学性质的影响
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Neşe Gungor; Mustafa Alevli 出版日期：2018-02-01 |
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