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 Vibrational properties of SiO and SiH in amorphous SiOx:H films (0 ≤ x ≤ 2.0) prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition 等离子体增强化学气相沉积非晶SiOx：H薄膜（0≤x≤2.0）中SiO和SiH的振动特性
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期刊：Journal of Non-Crystalline Solids 作者：Lina He; Takao Inokuma; Y. Kurata; S. Hasegawa 出版日期：1995-06-01 |
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