Low-Temperature Deposition of High-Quality SiO2 Films with a Sloped Sidewall Profile for Vertical Step Coverage

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标题	Low-Temperature Deposition of High-Quality SiO2 Films with a Sloped Sidewall Profile for Vertical Step Coverage 用于垂直台阶覆盖的具有倾斜侧壁轮廓的高质量SiO2薄膜的低温沉积相关领域材料科学光电子学沉积（地质）射频功率放大器电介质压力（语言学）击穿电压表面粗糙度表面光洁度电压复合材料电气工程生物工程类 CMOS芯片哲学古生物学语言学放大器沉积物
网址	https://www.mdpi.com/2079-6412/12/10/1411/pdf?version=166427...
DOI	10.3390/coatings12101411 doi
其它	期刊：Coatings 作者：Congcong Liang; Yuan Zhong; Qing Zhong; Jinjin Li; Wenhui Cao; et al 出版日期：2022-09-27
求助人	hh 在 2024-04-01 18:39:57 发布自北京，悬赏 10 积分
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