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标题
Electrolytic plasma as a novel route for damage-free polishing and thinning of semiconductor 4H-SiC wafers
网址
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S092401362...
DOI
10.1016/j.jmatprotec.2026.119231 doi
其它 期刊：Journal of Materials Processing Technology
作者：Yonghua Zhao; Yijin Zhong; Tao Wang; Wenjun Lu
出版日期：2026-03-01
求助人
时尚的初之 在 2026-08-14 16:47:37 发布自湖南，悬赏 10 积分
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