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 Atomic Layer Deposition of NiO Films on Si(100) Using Cyclopentadienyl-Type Compounds and Ozone as Precursors 以环戊二烯基化合物和臭氧为前驱体在Si（100）上原子层沉积NiO薄膜
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Hong‐Liang Lu; G. Scarel; C. Wiemer; Michele Perego; Sabina Spiga; et al 出版日期：2008-01-01 |
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