Simulation-based EUV source and mask optimization

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标题	Simulation-based EUV source and mask optimization 基于仿真的EUV源和掩模优化相关领域极紫外光刻计算机科学极端紫外线源模型光学物理激光器理论计算机科学
网址	https://doi.org/10.1117/12.801436
DOI	10.1117/12.801436 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Tim Fühner; Andreas Erdmann; Peter Evanschitzky 出版日期：2008-10-17
求助人	小孙在 2025-06-13 17:53:02 发布自上海，悬赏 20 积分
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