Chemical structure of the interface in ultrathin HfO2/Si films

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标题	Chemical structure of the interface in ultrathin HfO2/Si films HfO2/Si超薄薄膜界面的化学结构相关领域 X射线光电子能谱化学状态透射电子显微镜硅酸盐分析化学（期刊）图层（电子）电介质材料科学硅电子光谱学高-κ电介质谱线反褶积结合能化学结晶学化学物理原子物理学纳米技术核磁共振光电子学光学物理天文有机化学色谱法
网址	https://pubs.aip.org/aip/apl/article-pdf/84/8/1305/18586497/...
DOI	10.1063/1.1645984 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Jong-Cheol Lee; S.-J. Oh; Moonju Cho; Cheol Seong Hwang; Ranju Jung 出版日期：2004-02-13
求助人	keke 在 2025-03-15 16:33:07 发布自广西，悬赏 10 积分
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