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 Atomic layer sensitive in-situ plasma etch depth control with reflectance anisotropy spectroscopy (RAS) 基于反射各向异性光谱（RAS）的原子层敏感原位等离子体刻蚀深度控制
相关领域
材料科学
光学
反应离子刻蚀
光谱学
各向异性
半导体
法布里-珀罗干涉仪
等离子体刻蚀
光电子学
蚀刻（微加工）
波长
图层（电子）
物理
量子力学
复合材料
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Christoph Doering; Ann-Kathrin Kleinschmidt; Lars Barzen; Johannes Strassner; Henning Fouckhardt 出版日期：2017-06-26 |
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