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Atomic layer deposition of InN using trimethylindium and ammonia plasma
三甲基铟和氨等离子体原子层沉积InN
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网址
DOI
10.1116/1.5079279 doi
其它 期刊:Journal of vacuum science & technology
作者:Petro Deminskyi; Polla Rouf; Ivan G. Ivanov; Henrik Pedersen
出版日期:2019-02-26
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Ca 在 2025-09-02 12:42:04 发布自山西,悬赏 10 积分
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