| 标题 |
  Electrical Performance of 28 nm-Node Varying Channel-Width nMOSFETs under DPN Process Treatments DPN工艺处理下28 nm节点变沟道宽度NMOSFET的电学性能
相关领域
材料科学
光电子学
电介质
频道（广播）
节点（物理）
泄漏（经济）
MOSFET
短通道效应
电气工程
电子工程
晶体管
电压
工程类
结构工程
宏观经济学
经济
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Micromachines 作者：Shou-Yen Chao; Wen‐How Lan; Shou-Kong Fan; Zi-Wen Zhon; Mu‐Chun Wang 出版日期：2022-10-29 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
嘉心糖
aaaa
秋风
清爽老九
无极微光
cdercder
多麻少辣
Enigma_GEB
谢雷XIELei
OK
蓝天
学术文献互助
aajhajkahna
Lifeismovie
GingerF
学霸业
愉快的真
wyc
Nole
TYLZ
皖公网安备34019202002308
