标题 |
![]() DPN工艺处理下28 nm节点变沟道宽度NMOSFET的电学性能
相关领域
材料科学
光电子学
电介质
频道(广播)
节点(物理)
泄漏(经济)
MOSFET
短通道效应
电气工程
电子工程
晶体管
电压
工程类
结构工程
宏观经济学
经济
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Micromachines 作者:Shou-Yen Chao; Wen‐How Lan; Shou-Kong Fan; Zi-Wen Zhon; Mu‐Chun Wang 出版日期:2022-10-29 |
求助人 |
何敏
在
2025-08-05 03:46:29 发布,悬赏 10 积分
|
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|