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  Electrical Performance of 28 nm-Node Varying Channel-Width nMOSFETs under DPN Process Treatments DPN工艺处理下28 nm节点变沟道宽度NMOSFET的电学性能
相关领域
材料科学
光电子学
电介质
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MOSFET
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期刊：Micromachines 作者：Shou-Yen Chao; Wen‐How Lan; Shou-Kong Fan; Zi-Wen Zhon; Mu‐Chun Wang 出版日期：2022-10-29 |
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