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 Highly enhanced ferroelectricity in HfO 2 -based ferroelectric thin film by light ion bombardment HfO 2基铁电薄膜的光离子轰击增强铁电性
相关领域
铁电性
材料科学
空位缺陷
离子
薄膜
光电子学
纳米技术
化学物理
凝聚态物理
电介质
化学
物理
有机化学
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期刊：Science 作者：Seunghun Kang; Woo‐Sung Jang; Anna N. Morozovska; Owoong Kwon; Yeongrok Jin; et al 出版日期：2022-05-12 |
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