Quantitative Analysis on the Interaction Between Channel Carrier and Remote Trap in Hf x Zr 1‐x O 2 /SiO 2 Interface in Ferroelectric Field‐Effect‐Transistor

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标题	Quantitative Analysis on the Interaction Between Channel Carrier and Remote Trap in Hf x Zr 1‐x O 2 /SiO 2 Interface in Ferroelectric Field‐Effect‐Transistor
网址	https://advanced.onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/ael...
DOI	10.1002/aelm.202500549 doi
其它	期刊：Advanced Electronic Materials 作者：Haneul Lee; Sujong Kim; Changhyeon Han; Haesung Kim; Hyojin Yang; et al 出版日期：2025-12-16
求助人	ewfr 在 2026-04-05 17:29:38 发布自广东，悬赏 10 积分
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