Simulating use of displacement Talbot lithography for high volume AR waveguide manufacturing

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标题	Simulating use of displacement Talbot lithography for high volume AR waveguide manufacturing 位移Talbot光刻技术在大批量AR波导制造中的模拟应用相关领域平版印刷术流离失所（心理学）体积热力学材料科学光刻光学波导管塔尔博特效应 X射线光刻抵抗光电子学物理纳米技术心理学心理治疗师量子力学栅栏图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.3014541
DOI	10.1117/12.3014541 doi
其它	期刊：作者：Karen L. Wooley; Maryvonne Chalony; Andrew M. C. Dawes; Zhixin Wang; Harun H. Solak; et al 出版日期：2024-04-10
求助人	MADKAI 在 2024-04-24 18:23:36 发布自浙江，悬赏 20 积分
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