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 Towards understanding the difference in ultraviolet, ns-laser damage resistance between hafnia films produced by electron beam evaporation and ion beam sputtering methods 了解电子束蒸发和离子束溅射法制备的铪薄膜在抗紫外、ns-激光损伤方面的差异
相关领域
材料科学
哈夫尼亚
激光器
光学
光电子学
通量
溅射
薄膜
复合材料
陶瓷
纳米技术
立方氧化锆
物理
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| 其它 |
作者：Vanessa N. Peters; Siyao Qiu; Colin Harthcock; Raluca A. Negres; Thomas Voisin; et al 出版日期：2020-09-11 |
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