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 Plasma-based area selective deposition for extreme ultraviolet resist defectivity reduction and process window improvement 用于极紫外抗蚀剂缺陷减少和工艺窗口改进的基于等离子体的区域选择性沉积
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Katie Lutker-Lee; Jennifer Church; Eric R. Miller; Angélique Raley; Luciana Meli 出版日期：2022-05-01 |
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