Nitric oxide plasma treatment effect on SiO2 gate insulator for the stability improvement of InGaZnO thin-film transistors - 科研通

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标题	Nitric oxide plasma treatment effect on SiO2 gate insulator for the stability improvement of InGaZnO thin-film transistors
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2025.110327
DOI	10.1016/j.mssp.2025.110327 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Yunhui Jang; Zhong Pan; Seungwoo Chu; Gahong Lee; Yong-Sang Kim; et al 出版日期：2025-12-13
求助人	英吉利25 在 2026-10-15 19:01:26 发布自天津，悬赏 10 积分
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