Study of Plug Etch back process matching on faraday shielded ICP and traditional CCP plasma ETCH chambers

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标题	Study of Plug Etch back process matching on faraday shielded ICP and traditional CCP plasma ETCH chambers 法拉第屏蔽ICP与传统CCP等离子刻蚀室插拔刻蚀工艺匹配研究相关领域法拉第笼薄脆饼火花塞过程（计算）屏蔽电缆等离子体材料科学光电子学蚀刻（微加工）电容感应计算机科学感应耦合等离子体纳米技术机械工程工程类图层（电子）电气工程物理磁场操作系统量子力学
网址	https://doi.org/10.1109/cstic.2018.8369227
DOI	10.1109/cstic.2018.8369227 doi
其它	期刊：作者：Yali Fu; Shawming Ma; Wang Yi; Jammy Xiao; M H Kim; et al 出版日期：2018-03-01
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