MOS Capacitance Measurements for PEALD TiO2 Dielectric Films Grown under Different Conditions and the Impact of Al2O3 Partial-Monolayer Insertion - 科研通

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标题	MOS Capacitance Measurements for PEALD TiO2 Dielectric Films Grown under Different Conditions and the Impact of Al2O3 Partial-Monolayer Insertion
网址	http://dx.doi.org/10.3390/nano10020338
DOI	10.3390/nano10020338 doi
其它	期刊：Nanomaterials 作者：William Chiappim; Marcos Watanabe; Vanessa Dias; Giorgio Testoni; Ricardo Rangel; et al 出版日期：2020-02-17
求助人	小星星在 2026-07-10 14:09:28 发布自湖南，悬赏 10 积分
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