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![]() Y和Ho掺杂对超稳定Hf-B-Si-Y/Ho-C-N薄膜1500℃氧化过程中微观结构演变的影响
相关领域
材料科学
微观结构
兴奋剂
化学工程
纳米技术
冶金
光电子学
工程类
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期刊:Materials & Design 作者:J. C. Jiang; Yi Shen; P. Zeman; M. Procházka; J. Vlček; et al 出版日期:2023-12-16 |
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