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 SUPER HIGH RATE DEPOSITION OF HOMO- AND HETERO-EPITAXIAL SILICON THICK FILMS BY MESO-PLASMA CVD 相关领域
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期刊：High Temperature Material Processes An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes 作者：T. Yoshida; Makoto Kambara 出版日期：2007-01-01 |
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(2025-6-4)
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