| 标题 |
Growth of High Mobility InN Film on Ga‐Polar GaN Substrate by Molecular Beam Epitaxy for Optoelectronic Device Applications 分子束外延在Ga极性GaN衬底上生长高迁移率InN薄膜
相关领域
材料科学
光电子学
分子束外延
电子迁移率
制作
蓝宝石
氮化镓
基质(水族馆)
位错
氮化铟
外延
带隙
铟镓氮化物
纳米技术
图层(电子)
光学
激光器
复合材料
医学
替代医学
病理
海洋学
地质学
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Advanced Materials Interfaces 作者:Ali Imran; Muhammad Sulaman; Muhammad Yousaf; Muhammad Abid Anwar; Muhammad Qasim; et al 出版日期:2022-03-25 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|