Nanoscale inhomogeneity and photoacid generation dynamics in extreme ultraviolet resist materials

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标题	Nanoscale inhomogeneity and photoacid generation dynamics in extreme ultraviolet resist materials 极紫外抗蚀剂材料的纳米级不均匀性和光酸生成动力学相关领域抵抗极紫外光刻极端紫外线材料科学平版印刷术化学物理纳米尺度分子动力学纳米技术聚合物电子束光刻化学计算化学光学光电子学物理图层（电子）激光器复合材料
网址	https://doi.org/10.1117/12.2316308
DOI	10.1117/12.2316308 doi
其它	期刊：作者：Yuan‐Chung Cheng; Ping-Jui Wu; Yufu Wang; Chien-Wei Wang; Joy Cheng; et al 出版日期：2018-03-13
求助人	FashionBoy 在 2025-10-27 09:51:06 发布自浙江，悬赏 20 积分
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