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 Low Temperature Chemical Vapor Deposition of High Quality SiO2Film Using Helicon Plasma Source Helicon等离子体源低温化学气相沉积高质量SiO2薄膜
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yuko Nishimoto; N. Tokumasu; Kazuo Maeda Kazuo Maeda 出版日期：1995-02-01 |
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