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标题
Low Temperature Chemical Vapor Deposition of High Quality SiO2Film Using Helicon Plasma Source
Helicon等离子体源低温化学气相沉积高质量SiO2薄膜
相关领域
螺旋 正硅酸乙酯 化学机械平面化 化学气相沉积 等离子体增强化学气相沉积 等离子体 氧化物 分析化学（期刊） 材料科学 基质（水族馆） 等离子体处理 电介质 化学 抛光 光电子学 复合材料 纳米技术 冶金 地质学 物理 海洋学 量子力学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1143/jjap.34.762
DOI
10.1143/jjap.34.762 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Yuko Nishimoto; N. Tokumasu; Kazuo Maeda Kazuo Maeda
出版日期：1995-02-01
求助人
辉HUI 在 2025-09-25 00:09:52 发布自天津，悬赏 10 积分
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