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 Effect of annealing on the properties of plasma-enhanced atomic layer deposition grown HfO2 coatings for ultraviolet laser applications 退火对等离子体增强原子层沉积HfO2紫外激光涂层性能的影响
相关领域
退火（玻璃）
材料科学
杂质
涂层
原子层沉积
化学计量学
氧气
氧化物
还原气氛
分析化学（期刊）
紫外线
单层
薄膜
化学工程
纳米技术
冶金
化学
光电子学
工程类
有机化学
色谱法
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| 网址 | |
| DOI |
10.1016/j.jallcom.2023.169443
doi
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| 其它 |
期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Zesheng Lin; Meiping Zhu; Caixia Song; Tianbao Liu; Chunrong Yin; et al 出版日期：2023-06-01 |
| 求助人 | |
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