| 标题 |
 EUV patterning using CAR or MOX photoresist at low dose exposure for sub 36nm pitch 使用CAR或MOX光致抗蚀剂在低剂量曝光下用于亚36nm间距的EUV图案化
相关领域
多重图案
极紫外光刻
光刻胶
平版印刷术
浸没式光刻
临界尺寸
材料科学
光刻
光电子学
表面光洁度
计算机科学
半导体器件制造
吞吐量
抵抗
下一代光刻
薄脆饼
光学
纳米技术
物理
电信
电子束光刻
图层（电子）
无线
复合材料
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Danilo De Simone; Sophie Thibaut; Angélique Raley; Frederic Lazarrino; Ming Mao; et al 出版日期：2018-04-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
凌凌
Nole
cdercder
v0id
xing_xing
DW
水煮电吹风
欧克
Kao
DOC_XIONG
学术文献互助
OK
唠叨的大门
殷勤的紫槐
潇洒的惋清
谢雷XIELei
GingerF
认真芷容
Criminology34
皖公网安备34019202002308
