Fundamental understanding of exposure and process chemistry for enhanced lithography and stability of metal oxide resists

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标题	Fundamental understanding of exposure and process chemistry for enhanced lithography and stability of metal oxide resists 相关领域抵抗平版印刷术氧化物纳米技术材料科学金属化学光电子学冶金图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.3051260
DOI	10.1117/12.3051260 doi
其它	期刊：作者：Kevin M. Dorney; Ivan Pollentier; Fabian Holzmeier; Roberto Fallica; Ying-Lin Chen; et al 出版日期：2025-04-22
求助人	whatwhat 在 2026-02-23 18:06:40 发布自内蒙古，悬赏 20 积分
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