Molten KOH Etching with Na2O2Additive for Dislocation Revelation in 4H-SiC Epilayers and Substrates

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标题	Molten KOH Etching with Na2O2Additive for Dislocation Revelation in 4H-SiC Epilayers and Substrates 加入Na2O2的熔融KOH刻蚀在4H-SiC外延层和衬底中的位错显示相关领域蚀刻（微加工）位错材料科学基面结晶学 GSM演进的增强数据速率六方晶系各向同性腐蚀分析化学（期刊）复合材料化学图层（电子）色谱法电信计算机科学
网址	https://doi.org/10.7567/jjap.50.075502
DOI	10.7567/jjap.50.075502 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yongzhao Yao; Yukari Ishikawa; Yoshihiro Sugawara; Hitoshi Saitoh; Katsunori Danno; et al 出版日期：2011-07-01
求助人	欣欣丽丽在 2023-07-26 09:45:56 发布自江苏，悬赏 10 积分
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