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标题
Predicting photoresist sensitivity using machine learning
使用机器学习预测光刻胶灵敏度
相关领域
超参数 随机森林 灵敏度（控制系统） 机器学习 人工智能 计算机科学 感知器 均方误差 高斯过程 克里金 交叉验证 回归 线性回归 多层感知器 均方预测误差 光刻胶 人工神经网络 高斯分布 数学 统计 材料科学 工程类 化学 计算化学 图层（电子） 电子工程 复合材料
网址
https://doi.org/10.1002/bkcs.12776
DOI
10.1002/bkcs.12776 doi
其它 期刊：Bulletin of the Korean Chemical Society
作者：Balaji G. Ghule; Min-Kyeong Kim; Ji‐Hyun Jang
出版日期：2023-08-23
求助人
lbuild 在 2025-11-04 08:47:09 发布自上海，悬赏 10 积分
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