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标题
[高分] Active oxidation phenomena in silicon and silicon-base materials
硅和硅基材料中的活性氧化现象
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DOI
暂未提供,该求助的时间将会延长,查看原因?
其它 作者:HINZE J W , TRIPP W C , GRAHAM H C
求助人
FSYHantis 在 2025-11-01 02:47:15 发布自北京,悬赏 150 积分
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求助 / 应助时间线
  • 10个月前,求助关闭

    科研通管家 科研通管家 机器人 关闭了本次求助。

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  • 10个月前

    FSYHantis FSYHantis Lv61 求助人 发起了本次求助

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