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  Seeding-Layer-Free Deposition of High-k Dielectric on CVD Graphene for Enhanced Gate Control Ability 在CVD石墨烯上无晶种层沉积高k电介质以增强栅极控制能力
相关领域
材料科学
电介质
栅极电介质
原子层沉积
石墨烯
光电子学
跨导
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沉积（地质）
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错配
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晶体管
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| 其它 |
期刊：Crystals 作者：Yunpeng Yan; Songang Peng; Zhi Jin; Dayong Zhang; Jingyuan Shi 出版日期：2022-04-07 |
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Monowi
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2025-08-05 06:46:45 发布，悬赏 10 积分
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