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A Nanoimprint Lithography Hybrid Photoresist Based on the Thiol–Ene System
基于硫醇——烯体系的纳米压印光刻复合光刻胶
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期刊:Advanced functional materials 作者:Hong Lin; Xiaomin Wan; Xuesong Jiang; Qingkang Wang; Jie Yin 出版日期:2011-06-03 |
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